標籤: 乾蝕刻設備

2011年3月16日 - 蝕刻設備每天待在無塵室面對的是強酸，高壓電，如果乾蝕刻的話，還要面對毒氣。還有，作為蝕刻設備不但要懂機台的機械的原理，機械專業知識 ...

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2017年12月8日 - 蝕刻分為干蝕刻與濕蝕刻，其區別如下：干蝕刻：利用不易被物理、化學作用 ... Plasma蝕刻設備昂貴，但生產過程中耗費的Material非常少， Plasma ...

INVENIA公司擁有G4~G8.5各系列乾蝕刻機台設計、 製造、 與製程應用實績與經驗。 ○. INVENIA LCD面板蝕刻設備適合於各式電漿產生模式： ECCP、 ...

高的選擇性、高的蝕刻速率和低的設備成本。受到等向 ... TCP9400(多晶矽乾蝕刻機)為科林研發之蝕刻機， ... 對乾蝕刻的非等向性特性及蝕刻的均勻性有所助益，對.

設備應用. 電漿乾式蝕刻製程; 蝕刻材料:Cu, Ti, Ta, Si, SiO2,Pd…(等各式金屬) ... 高速乾式蝕刻製程; 高冷卻能力，低基材變形量; 物理性的離子蝕刻方式; 高縱橫比蝕刻 ...

... 然後再利用. 蝕刻，來完成圖案轉移到薄膜上的目的. ◇蝕刻技術. ➢ 乾蝕刻. ➢ 濕蝕刻 ... 非等向性蝕刻：薄膜遭受固定方向，尤其是垂直方向的蝕 .... 高密度電漿設備.

作者於1989年，以「有磁場微波電漿蝕刻技術的開發與實用化」受獎大河內紀念賞。1994年，以「低溫乾蝕刻設備的開發」受獎機械振興協會賞通產大臣賞。 ◎圖解乾 ...

「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟，而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是半導體製造中最常用的製程之一。 開始蝕刻前，晶圓上會塗上 ...