標籤: icp蝕刻

2017年12月8日 - 蝕刻分為干蝕刻與濕蝕刻，其區別如下：干蝕刻：利用不易被物理、化學作用破壞的物質 ... ICP=Inductively Coupled Plasma（電感耦合等離子體蝕刻）.

2017年11月12日 - 如下圖所示，純粹的化學蝕刻通常沒有方向選擇性，上下左右刻蝕速度相同，蝕刻後將 .... 除了PE及RIE機台，array製程最常用到的還有ICP模式。 1.