標籤: 干蝕刻

2017年12月8日 - 蚀刻. 蚀刻的作用：线路成型。 蚀刻分为干蚀刻与湿蚀刻，其区别如下：. 干蚀刻：利用不易被物理、化学作用破坏的物质光阻来阻挡不欲去除的部分， ...

蝕刻是指以酸性、腐蝕性或有研磨效用的物質在玻. 璃表面上創作的技術。傳統上，這段過程是在玻璃吹製. 好或鑄好之後進行的。1920 年代，人們發明一種新的模.

干蚀刻机(ICP)承载盘(ICP Tray或者Shuttle Quality )在ICP for PSS(Pattern sapphire substance) 制程具重要性的承载容器，具有较佳的均匀性(uniformity)及耐蚀刻性 ...

目前MMG混切技術已在實際生產中的得以應用,但仍舊存在一些難題,如干蝕刻后的有源層殘留膜厚均一性（a-Si remain U%）不佳,這將會影響產品的電學性能/產品良 ...

2017年12月8日 - 蝕刻蝕刻的作用：線路成型。蝕刻分為干蝕刻與濕蝕刻，其區別如下：干蝕刻：利用不易被物理、化學作用破壞的物質光阻來阻擋不欲去除的部分，利用 ...

書名：半導體乾蝕刻技術，語言：繁體中文，ISBN：9789863581291，頁數：176，出版社：白象文化，作者：野尻一男，譯者：倪志榮，出版日期：2015/03/01，類別：專業/ ...

干蝕刻英文翻譯：dry etchings…，點擊查查權威綫上辭典詳細解釋干蝕刻英文怎麽說，怎麽用英語翻譯干蝕刻，干蝕刻的英語例句用法和解釋。

INVENIA公司擁有G4~G8.5各系列乾蝕刻機台設計、 製造、 與製程應用實績與經驗。 ○. INVENIA LCD面板蝕刻設備適合於各式電漿產生模式： ECCP、 ...

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干蚀刻设备包括：真空室，其中包括固定待蚀刻部件的载物台；工艺气体提供装置，用于向真空室中提供工艺气体；等离子体产生装置，其包括用于在真空室中产生 ...