標籤: 濺鍍靶材

2004年12月28日 - 濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法，在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生游離，經由電場的作用，向塗佈體(通常是晶圓片、 ...

所謂濺鍍法是指半導體或FPD製造中,廣泛被使用之膜製造技術之一,由數十nm 到數μm, 為製作非常均等薄膜的方法。濺鍍法的原料中,金屬或陶瓷等的靶材常被使用。

依用途提供可對應多種形狀、尺寸的高純度濺鍍靶材、蒸鍍材料。 亦受理您在評估各種材料時所需的濺鍍成膜測試。 >來自溶解法的靶材、蒸鍍材料; 反射膜、電極用銀 ...

今後，在日漸高度化的薄膜電子工程領域中，我們也將持續以貴金屬濺鍍材料龍頭企業的身分來 ... 讓氧化物細微均勻分散的靶材不易產生顆粒，可進行穩定的濺鍍。

濺鍍靶材( sputter target ) 是現代薄膜科技常用的一種鍍膜材料。靶材在高真空、高電壓的環境中，經高能量電子束轟擊後，靶材表面的電子發生游離，並沈積在基板上 ...

提供濺鍍靶材產品服務，為專業的濺鍍靶材製造商, 濺鍍靶材供應商及濺鍍靶材出口商.

本公司精制的高纯度材料和采用先进技术制造的各种靶材。满足太阳能电池、显示屏、触摸屏、记录媒体和半导体等各种领域的需求。

何謂靶材 (一) 靶材(Target)是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料。濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法，在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生 ...

光洋的靶材提供了良好的薄膜特性與濺鍍效率，有助於碟片品質的掌控。除此之外對於靶材之清淨度、晶像均勻性和回收系統等，與相關的整合技術與品質服務，一直 ...