蝕刻| Applied Materials

「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟,而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是半導體製造中最常用的製程之一。 開始蝕刻前,晶圓上會塗上 ...

蝕刻- 维基百科,自由的百科全书

蝕刻是指以酸性、腐蝕性或有研磨效用的物質在玻璃表面上創作的技術。 ... 到了近代,現在的蝕刻應用在半導體的製程上,透過黃光製程來定義出想要的圖形,利用 ...

什麼是蝕刻(Etching)?

glass」。因為用在此過程中的酸劑很危險,現在大多是使. 用研磨的方法。到了近代,現在的蝕刻應用在半導體的. 製程上,透過黃光製程來定義出想要的圖形,利用蝕刻.

Etching

蝕刻(Etching). ▫. 表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻. ▫. 選擇性蝕刻或整面全區蝕刻. ▫. 選擇性蝕刻將IC光阻上的設計圖形轉移至晶圓表面層. ▫.

《半導體製造流程》

半導體元件製造過程可概分為晶圓處理製程(Wafer Fabrication;簡稱Wafer ..... 蝕刻製程是將電路佈局移轉到晶片上之關鍵步驟,包括蝕刻及蝕刻後清洗兩部份,本所.

Chap9 蝕刻(Etching)

利用薄膜和特定溶液間所進行的. 化學反應,來去除未被光阻覆蓋. 的薄膜. ◇ 優點:製程簡單、產量速度快、. 屬等向性蝕刻. ◇ 濕式蝕刻的化學反應屬於液相及. 固相的 ...