標籤: 靶材料

2004年12月28日 - 靶材(Target)是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料。 濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法，在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生 ...

出處/學術領域, 英文詞彙, 中文詞彙. 學術名詞 核能名詞, target material, 靶材料. 學術名詞 電機工程名詞, target material, 靶材料 ...

在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同 ...

濺鍍靶材( sputter target ) 是現代薄膜科技常用的一種鍍膜材料。靶材在高真空、高電壓的環境中，經高能量電子束轟擊後，靶材表面的電子發生游離，並沈積在基板上 ...

靶材(target)，是對物理氣相沉積技術應用的鍍膜材料。在沉積過程中，膜材要 ... 就像被射擊的靶子一樣。而濺射靶材，是靶材的一種，指應用在真空濺射去鍍膜的靶材.

何謂靶材 (一) 靶材(Target)是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料。濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法，在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生 ...

The 旋轉型(管型)濺鍍靶材產品series contains a wide range of products including 顯示器旋轉(管型)濺鍍靶材offered by , a 中華民國(R.O.C.) based OEM_ODM ...

靶材依鍍膜機採用的濺鍍槍(Gun) 不同而有不同的設計, 分成電弧靶與濺鍍靶二大類 ... 靶材必須是良導體, 導電不佳的材料不能做電弧靶電弧靶通常是圓形, 直徑3”~6”, ...

光洋的靶材提供了良好的薄膜特性與濺鍍效率，有助於碟片品質的掌控。除此之外對於靶材之清淨度、晶像均勻性和回收系統等，與相關的整合技術與品質服務，一直 ...