標籤: 靶材規格

物理氣相沈積(PVD, Physical Vapor Deposition) 指利用電漿或電弧的物理能量將靶材上的原子沈積到基材上, 形成薄膜. 靶材依鍍膜機採用的濺鍍槍(Gun) 不同而有 ...

PVD靶材產品: 鈦靶材，鉻靶材，鎳靶材，銀靶材，鉿靶材，鉬靶材和各式陶瓷靶材， ... 濺鍍靶材( sputter target ) 是現代薄膜科技常用的一種鍍膜材料。靶材 ... 產品規格 ...

其外型看起來像較厚的光碟片，也有的是長條型，主要根據濺鍍設備的規格而定。純金屬靶材因本身具有導熱性，不需另行接合；化合物靶材由於不具導熱性，需要以銦 ...

背板基本上是無氧黃銅所做的(因怕污染設備). 當然也有與背板分開單獨製造的靶材. 但是因應單一規格的量產. 此種形式已經慢慢消失. 且靶材形狀因各家機械而有 ...

靶材通常是高純度的化合物或者純金屬，純度要求至少99.99%，形狀類似一片光碟，也有的靶材是長條型的，主要根據濺鍍設備的規格而定。靶材是用粉末冶鍊的方式 ...

各式材質之靶材: 金屬靶/合金靶/陶瓷靶/脆性靶，均可進行銲合作業 自主設計/研發，建立全球 ... 銲合製程能力: 可配合客戶需求之規格生產. 圓形: 各式小/中/大/超大 ...

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2017年7月16日 - 濺射靶材的種類較多，即使相同材質的濺射靶材也有不同的規格。按照不同的分類方法， 能夠將濺射靶材分為不同的類別，主要分類情況如下:.

除了以上材料之外特殊材料歡迎來電/來信洽詢＊請告知規格（材料、純度、尺寸、應用等） ... 可對應各種靶材的貼合代工。另外可回收靶材,去殘靶並再進行新靶貼合 ...

靶材(target)是薄膜濺鍍製程的主要材料，通常用高純度化合物或純金屬製成。 隨著電子產品趨向輕薄化，傳統電鍍製程需必須用較厚的膜層才能取得鍍膜的均勻性，但 ...